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PECVD钻石与传统CVD钻石技术的差异

来源:未知 发布时间 2020-09-03 15:37
编辑:乐小编

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名词解释

CVD(Chemical Vapor Deposition化学气相沉积)

PECVD( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 等离子体增强化学的气相沉积法。

PECVD钻石技术为CVD钻石技术的升级改进技术。

PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

实验机理:是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。

相比CVD钻石,

PECVD钻石的优点:金刚石沉积速率快,成膜质量好,针孔较少,晶体结构更稳定,内含物更少,结晶纯净度更高,金刚石结晶无铁磁性,不能被强磁吸引。

PECVD钻石的优点:设备投资大、成本高,对气体的纯度要求高;

PECVD钻石技术在珠宝级培育钻石领域有更广阔的前景,但由于需要的设备投资大,配套资源技术要求高等多种原因,尚未普及。

编辑:乐小编

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