名词解释
CVD(Chemical Vapor Deposition化学气相沉积)
PECVD( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 等离子体增强化学的气相沉积法。
PECVD钻石技术为CVD钻石技术的升级改进技术。
PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).
实验机理：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
相比CVD钻石，
PECVD钻石的优点：金刚石沉积速率快，成膜质量好，针孔较少，晶体结构更稳定，内含物更少，结晶纯净度更高，金刚石结晶无铁磁性，不能被强磁吸引。
PECVD钻石的优点：设备投资大、成本高，对气体的纯度要求高；
PECVD钻石技术在珠宝级培育钻石领域有更广阔的前景，但由于需要的设备投资大，配套资源技术要求高等多种原因，尚未普及。
